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YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
简介
YS/T 23-2016代替 YS/T 23—1992
硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
2016-09-01 实施
2016-04-05 发布
前言
本标准按照 GB/T1.1—2009 给出的规则起草。
本标准代替 YS/T 23—1992《硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法》。本标准与YS/T23-1992相比，主要变动如下∶
——增加了"术语和定义""干扰因素"（见第 3 章、第 5 章）;
——删除了非破坏性测试方法;
——在第6 章中增加了无铬腐蚀液 B的配制（见 6.9）;
——修改了第 7章测量仪器中的显微镜并去掉了测微标尺;
——在第 8 章中增加了试样制备方法二（见 8.3）;
——修改了第 9章测量步骤;
——修改了测量结果的计算公式，用显微镜图像处理技术的结果替代边长计算;
——增加了外延层厚度 T 和堆垛层错图形边长L 的关系（见附录 A）。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。
YS/T 23-2016代替 YS/T 23—1992
硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
Test method for thickness of epitaxial layers—Stacking fault size
2016-09-01 实施
2016-04-05 发布
前言
本标准按照 GB/T1.1—2009 给出的规则起草。
本标准代替 YS/T 23—1992《硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法》。本标准与YS/T23-1992相比，主要变动如下∶
——增加了"术语和定义""干扰因素"（见第 3 章、第 5 章）;
——删除了非破坏性测试方法;
——在第6 章中增加了无铬腐蚀液 B的配制（见 6.9）;
——修改了第 7章测量仪器中的显微镜并去掉了测微标尺;
——在第 8 章中增加了试样制备方法二（见 8.3）;
——修改了第 9章测量步骤;
——修改了测量结果的计算公式，用显微镜图像处理技术的结果替代边长计算;
——增加了外延层厚度 T 和堆垛层错图形边长L 的关系（见附录 A）。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。
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