SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液
简介
SJ/T 11507-2015
集成电路用氧化层缓冲腐蚀液
Oxide coating etching buffer for integrated circuit
2015-10- 01实施
2015-04- 30 发布
前 言
本标准是按照GB/T1.1—2009之规则起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC203）归口。
SJ/T 11507-2015
集成电路用氧化层缓冲腐蚀液
Oxide coating etching buffer for integrated circuit
2015-10- 01实施
2015-04- 30 发布
前 言
本标准是按照GB/T1.1—2009之规则起草。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC203）归口。
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