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YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材
简介
YS/T 1024-2015
溅射用钽靶材
Tantalum sputtering targets
2015-04-30 发布
2015-10-01 实施
本标准按照 GB/T 1.1—2009 给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC 243）提出并归口。
1 范围
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材（以下简称钽靶材）。
2 规范性引用文件
YS/T 1024-2015
溅射用钽靶材
Tantalum sputtering targets
2015-04-30 发布
2015-10-01 实施
本标准按照 GB/T 1.1—2009 给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC 243）提出并归口。
1 范围
本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材（以下简称钽靶材）。
2 规范性引用文件
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