超大规模集成电路微细加工技术

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简介
超大规模集成电路微细加工技术
高存贞译日本财团法人半导体研究振兴会编

1981

本书以超大规模集成电路中的微细加工技术为主要内容,叙述了光致抗蚀剂及电子束抗蚀剂的材料及其物理化学性质;光掩模技术;光、电子束、X射线刻蚀技术;位置控制技术;离子腐蚀、干腐蚀技术;氟化碳体系化合物的性质及制法;离子镀膜的基础及应用,等离子体表面处理及薄膜生成等。