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SJ 20984-2008 化学气相淀积（CVD）设备通用规范

文档大小：11.6 MB 资料语言：中文版 文档格式：PDF电子文档 上传时间：2021-05-24 10:01:00 所属栏目：行业标准
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简介
SJ 20984-2008
化学气相淀积（CVD）设备通用规范
General specification for chemical vapor deposition(CVD)equipment
2008-04-15 发布
2008-06-30 实施
本规范起草单位∶中国电子科技集团公司第四十八研究所。

 

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